近日，我们收到客户这样的咨询：在办理集成电路布图设计登记时为什么既要提供布图设计的复制件或者图样，还要提供该布图设计的集成电路样品？原因有以下几点：

第一、符合法律规定。

依据《集成电路布图设计保护条例》（以下简称“条例”）第十六条的规定申请布图设计登记，应当提交：

（一）布图设计登记申请表；

（二）布图设计的复制件或者图样；

（三）布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品。

通过上述条款，我们不难发现复制件或者图样是登记的要件。如果已投入商业利用，样品也是登记的要件。如果缺少要件该登记将不予受理。

第二、方便确权。

《集成电路布图设计保护条例实施细则》第十四条规定：按照条例第十六条规定提交的布图设计的复制件或者图样应当符合下列要求：复制件或者图样的纸件应当至少放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上。

但随着半导体行业的发展，存在不少即便将复制件和纸质件放大了数倍（20倍以上）后，仍不能完整和清晰地反映布图设计内容的情形。

《集成电路布图设计审查与执法指南》第三部分行政执法-第2章侵权判定-第1节专有权保护范围的确定中规定“如果现有涉案复制件或者图样纸件放大的倍数尚不足以完整、清晰地反映布图设计的内容，也可以通过专业机构对登记时提交的含有该布设计的集成电路样品进行反向剖析，提取其中的三维配置信息，在确认样品与复制件或者图样中的布图设计一致的情况下，辅助确定复制件或者图样中布图设计的保护内容。”

复制件或者图样作为获得登记的布图设计必须提交的文件，其法律地位显然高于芯片样品。没有在复制件或者图样中体现的图层等布图设计信息，不应作为布图设计请求保护的内容。而对于集成电路样品，可以通过技术手段精确还原出其所包含的布图设计的详细信息。因此，如果基于客观原因，复制件或者图样中的确存在某些无法识别的布图设计细节，可以复制件和图样为基础，以集成电路样品为补充，参考芯片样品进行确定。

这一现象充分强调了复制件或图样以及集成电路样品在登记过程中的关键作用。特别是在当前，芯片技术突飞猛进，摩尔定律持续有效，提升芯片性能仍为研究者关注的焦点。

在此，佩腾特知识产权提醒您办理集成电路布图设计登记时，尽量提供含有该布图设计的集成电路样品。